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INSITU STUDY OF THIN-FILM GROWTH BY INTERNAL-STRESS MEASUREMENT UNDER ULTRAHIGH-VACUUM CONDITIONS - SILVER AND COPPER UNDER THE INFLUENCE OF OXYGEN

被引：37
作者：
ABERMANN, R
KOCH, R
机构：
来源：
THIN SOLID FILMS | 1986年 / 142卷 / 01期
关键词：
D O I：
10.1016/0040-6090(86)90303-2
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
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页码：65 / 76
页数：12
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共 15 条
[11]   THE INFLUENCE OF O-2,H-2,H2O,N-2,CO AND CH4 ON THE STRUCTURE OF THIN SILVER FILMS INVESTIGATED BY ULTRAHIGH-VACUUM INTERNAL-STRESS MEASUREMENTS [J].
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