PHOTOINDUCED STRESS-RELAXATION IN AMORPHOUS SELENIUM FILMS

被引：36

作者：

KOSEKI, H ^{[1
]}

ODAJIMA, A ^{[1
]}

机构：

[1] HOKKAIDO UNIV,FAC ENGN,DEPT APPL PHYS,SAPPORO,HOKKAIDO 060,JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS | 1982年 / 21卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.21.424

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：424 / 428

页数：5

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