STUDY ON INSITU CARBON COATING IN JIPP T-IIU

被引：16

作者：

NODA, N

HORI, Y

MASAI, K

OGAWA, Y

HIROKURA, S

KAKO, E

TANIGUCHI, Y

KAWAHATA, K

OGAWA, I

ANDO, R

AKIYAMA, R

KAWASUMI, Y

MATSUOKA, K

TOI, K

HAMADA, Y

TANAHASHI, S

WATARI, T

AMEMIYA, S

ISHIKAWA, K

MINAGAWA, H

SATAKE, T

HASHIBA, M

YAMASHINA, T

OKAZAKI, K

OYAMA, H

ISHIBE, Y

YANO, K

SAKAMOTO, Y

机构：

[1] NAGOYA UNIV, DEPT NUCL ENGN, NAGOYA, AICHI 464, JAPAN

[2] NAGOYA UNIV, INST PLASMA PHYS, NAGOYA, AICHI 464, JAPAN

[3] HOKKAIDO UNIV, DEPT NUCL ENGN, SAPPORO, HOKKAIDO 060, JAPAN

[4] INST PHYS & CHEM RES, SAITAMA 35101, JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0022-3115(87)90429-6

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：709 / 712

页数：4