HYDROGEN EVOLUTION FROM PLASMA-DEPOSITED AMORPHOUS SILICON FILMS

被引：21

作者：

MATYSIK, KJ

MOGAB, CJ

BAGLEY, BG

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1978年 / 15卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569575

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：302 / 304

页数：3

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