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SELECTIVE EPITAXIAL DEPOSITION OF SILICON
被引:105
作者
:
JOYCE, BD
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0
JOYCE, BD
BALDREY, JA
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BALDREY, JA
机构
:
来源
:
NATURE
|
1962年
/ 195卷
/ 4840期
关键词
:
D O I
:
10.1038/195485a0
中图分类号
:
O [数理科学和化学];
P [天文学、地球科学];
Q [生物科学];
N [自然科学总论];
学科分类号
:
07 ;
0710 ;
09 ;
摘要
:
引用
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页码:485 / &
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共 4 条
[1]
STABILIZATION OF SILICON SURFACES BY THERMALLY GROWN OXIDES
ATALLA, MM
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1961,
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[1]
STABILIZATION OF SILICON SURFACES BY THERMALLY GROWN OXIDES
ATALLA, MM
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ATALLA, MM
TANNENBAUM, E
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TANNENBAUM, E
SCHEIBNER, EJ
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SCHEIBNER, EJ
[J].
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1959,
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MARK, A
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1960,
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