INFLUENCE OF DEPOSITION PARAMETERS ON THE OPTICAL AND STRUCTURAL-PROPERTIES OF IIO2 FILMS PRODUCED BY REACTIVE DC PLASMATRON SPUTTERING

被引：108

作者：

SCHILLER, S ^{[1
]}

BEISTER, G ^{[1
]}

SIEBER, W ^{[1
]}

SCHIRMER, G ^{[1
]}

HACKER, E ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV JENA,PHYS SECT,DDR-69 JENA,GER DEM REP

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(81)90673-8

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：239 / 245

页数：7

共 7 条

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