HIGH-FIELD CONDUCTION IN OFF-STOICHIOMETRIC SIO2-FILMS

被引：6

作者：

FALCONY, C

HELMAN, JS

机构：

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1983年 / 54卷 / 01期

基金：

美国国家科学基金会;

关键词：

D O I：

10.1063/1.331679

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：442 / 444

页数：3

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共 4 条

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