CHARGE STORAGE CHARACTERISTICS OF MIS STRUCTURES EMPLOYING DUAL-INSULATOR COMPOSITES OF HFO2-SIO2 AND SRTIO3-SIO2

被引：8

作者：

SHUSKUS, AJ ^{[1
]}

QUINN, DJ ^{[1
]}

CULLEN, DE ^{[1
]}

机构：

[1] UNITED AIRCRAFT RES LABS,E HARTFORD,CT 06108

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.1654852

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：184 / 185

页数：2

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共 5 条

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