DYNAMIC IMPLANT PROFILING BY LOW-ENERGY NUCLEAR-REACTION SPECTROSCOPY

被引:13
作者
COWGILL, DF [1 ]
机构
[1] SANDIA LABS,ALBUQUERQUE,NM 87115
来源
NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS | 1977年 / 145卷 / 03期
关键词
D O I
10.1016/0029-554X(77)90580-8
中图分类号
TH7 [仪器、仪表];
学科分类号
0804 ; 080401 ; 081102 ;
摘要
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页数:10
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