IMPROVEMENT IN RESOLUTION AND REPRODUCIBILITY USING THE POLYMETHYLMETHACRYLATE POLYMETHYLACRYLIC ACID BILAYER SYSTEM

被引：2

作者：

MYERS, L

SPENCER, MG

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1986年 / 4卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583492

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

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页码：1259 / 1260

页数：2

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共 2 条

[1] COPOLYMERS OF METHYL-METHACRYLATE AND METHACRYLIC-ACID AND THEIR METAL-SALTS AS RADIATION SENSITIVE RESISTS [J].

HALLER, I ;

FEDER, R ;

HATZAKIS, M ;

SPILLER, E .

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1979, 126 (01) :154-161

[2] PMMA CO-POLYMERS AS HIGH-SENSITIVITY ELECTRON RESISTS [J].

HATZAKIS, M .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1979, 16 (06) :1984-1988