MICROWAVE ION-SOURCE FOR HIGH-CURRENT IMPLANTER

被引：28

作者：

SAKUDO, N

TOKIGUCHI, K

KOIKE, H

KANOMATA, I

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.1135499

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

页码：940 / 943

页数：4

共 6 条

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