HIGH-RATE RF SPUTTERING SYSTEM

被引：13

作者：

GRANTHAM, DH

PARADIS, EL

QUINN, DJ

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1970年 / 7卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1315854

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：343 / &

共 5 条

[1]

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[2]

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[3] DIELECTRIC THIN FILMS THROUGH RF SPUTTERING [J].

DAVIDSE, PD ;

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[5] PROPERTIES OF INSULATING THIN FILMS DEPOSITED BY RF SPUTTERING [J].

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DAVIDSE, PD ;

LEHMAN, HS ;

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