PROFILE CONTROL OF SIH RADICALS BY CROSS MAGNETIC-FIELD IN PLASMA PROCESSING

被引：17

作者：

FUJIYAMA, H

YAMASHITA, T

TAKAHASHI, T

MATSUO, H

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.97894

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1322 / 1324

页数：3

共 5 条

[1] STRUCTURE OF RF PARALLEL-PLATE DISCHARGES [J].

BLETZINGER, P ;

DEJOSEPH, CA .

[2] A CONTINUUM MODEL OF DC AND RF DISCHARGES [J].

GRAVES, DB ;

JENSEN, KF .

MATSUDA, A ;

KAGA, T ;

TANAKA, H ;

MALHOTRA, L ;

TANAKA, K .

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS, 1983, 22 (02) :L115-L117

MATSUDA, A ;

TANAKA, K .

[5]

NISHIMURA K, 1984, 1ST INT PHOT SCI ENG, P183