APPLICATION OF AES-SIMS (IMA)-FDS COMBINED SYSTEMS TO PHYSICAL AND CHEMICAL SPUTTERING PROCESSES OF GRAPHITE AND SILICON-CARBIDE SURFACES WITH ENERGETIC IONS

被引:12
作者
YAMASHINA, T
MOHRI, M
WATANABE, K
DOI, H
HAYAKAWA, K
机构
关键词
D O I
10.1016/0022-3115(78)90138-1
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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页码:202 / 203
页数:2
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