FINAL-STATE INTERACTION AND INTERSUBBAND SPECTROSCOPY IN SILICON INVERSION-LAYERS

被引:9
作者
DASSARMA, S
KALIA, RK
NAKAYAMA, M
QUINN, JJ
机构
[1] ARGONNE NATL LAB, ARGONNE, IL 60439 USA
[2] KYUSHU UNIV, FUKUOKA, JAPAN
[3] BROWN UNIV, PROVIDENCE, RI 02912 USA
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.24.7181
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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页数:6
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