END-POINT DETERMINATION OF ALUMINUM CCL4 PLASMA ETCHING BY OPTICAL EMISSION-SPECTROSCOPY

被引：30

作者：

CURTIS, BJ

BRUNNER, HJ

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2131559

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：829 / 830

页数：2

共 5 条

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