ROLE OF DC SELF-BIAS POTENTIAL IN CONTROL OF RF SPUTTERING

被引:22
作者
LAMONT, LT [1 ]
TURNER, FT [1 ]
机构
[1] VARIAN ASSOC,PALO ALTO,CA 94303
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1974年 / 11卷 / 01期
关键词
D O I
10.1116/1.1318659
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:47 / 51
页数:5
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