OXYGEN DEPTH PROFILING BY ACTIVATION WITH THE O-16(HE-3,P,)F-18 REACTION

被引：7

作者：

ITOH, Y

NOZAKI, T

机构：

来源：

JOURNAL OF RADIOANALYTICAL CHEMISTRY | 1982年 / 70卷 / 1-2期

关键词：

D O I：

10.1007/BF02516121

中图分类号：

O65 [分析化学];

学科分类号：

070302 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：329 / 336

页数：8

共 4 条

GASS, J ;

MULLER, HH ;

STUSSI, H ;

SCHWEITZER, S .

[2] YIELD OF F-18 FOR VARIOUS REACTIONS FROM OXYGEN AND NEON [J].

NOZAKI, T ;

IWAMOTO, M ;

IDO, T .

INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED RADIATION AND ISOTOPES, 1974, 25 (09) :393-399

NOZAKI, T ;

MAKIDE, Y ;

YATSURUGI, Y ;

AKIYAMA, N ;

ENDO, Y .

INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED RADIATION AND ISOTOPES, 1971, 22 (10) :607-+

[4]

PATEL JR, 1977, SEMICONDUCTOR SILICO, P521