E-BEAM DEPOSITION CHARACTERISTICS OF REACTIVELY EVAPORATED TA2O5 FOR OPTICAL INTERFERENCE COATINGS

被引:32
作者
HERRMANN, WC
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 18卷 / 03期
关键词
D O I
10.1116/1.570921
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1303 / 1305
页数:3
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