E-BEAM DEPOSITION CHARACTERISTICS OF REACTIVELY EVAPORATED TA2O5 FOR OPTICAL INTERFERENCE COATINGS

被引：32

作者：

HERRMANN, WC

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 18卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.570921

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1303 / 1305

页数：3

共 4 条

[1] ARNON O, 1978, THESIS U ROCHESTER R
[2] USE OF HAFNIUM DIOXIDE IN MULTILAYER DIELECTRIC REFLECTORS FOR NEAR UV
BAUMEISTER, P
ARNON, O
[J]. APPLIED OPTICS, 1977, 16 (02): : 439 - 444
[3] OPTICAL PROPAGATION IN SHEET AND PATTERN GENERATED FILMS OF TA2O5
HENSLER, DH
CUTHBERT, JD
MARTIN, RJ
TIEN, PK
[J]. APPLIED OPTICS, 1971, 10 (05) : 1037 - +
[4] EFFECTS OF DEPOSITION PARAMETERS ON OPTICAL LOSS FOR RF-SPUTTERED TA2O5 AND SI3N4 WAVEGUIDES
PAULSON, WM
HICKERNELL, FS
DAVIS, RL
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1979, 16 (02): : 307 - 310