HIGH-RATE REACTIVE ION ETCHING OF SIO2 USING A MAGNETRON DISCHARGE

被引：41

作者：

HORIIKE, Y

OKANO, H

YAMAZAKI, T

HORIE, H

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.20.L817

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L817 / L820

页数：4

共 5 条

EPHRATH, LM .

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