SELECTIVE TUNGSTEN CVD IN A HOT WALLED REACTOR BY SILANE REDUCTION OF WF6

被引：6

作者：

GORCZYCA, TB

DOUGLAS, LR

GOROWITZ, B

WILSON, RH

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2097591

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：2765 / 2766

页数：2

共 7 条

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