HIGH-SPEED BIPOLAR ICS USING SUPER SELF-ALIGNED PROCESS TECHNOLOGY

被引：10

作者：

SAKAI, T

KOBAYASHI, Y

YAMAUCHI, H

SATO, M

MAKINO, T

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.7567/JJAPS.20S1.155

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：155 / 159

页数：5

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共 5 条

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