CHEMICAL THERMODYNAMICS FOR OPTIMIZATION OF EPITAXIAL FILM DEPOSITION PROCESSES

被引：10

作者：

KUZNETSOV, FA ^{[1
]}

机构：

[1] ACAD SCI USSR, INST INORG CHEM, NOVOSIBIRSK, USSR

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(72)90300-8

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：303 / 312

页数：10

共 21 条

[1]

Alcock C. B., 1967, T I MM, V76, pC246

[2]

ARIZUMI T, 1964, JPN J APPL PHYS, V3, P87

BOUCHER, A ;

HOLLAN, L .

FERGUSSON, RR ;

GABOR, T .

[5]

HURLE DTJ, 1967, CRYST GROWTH, P241

[6]

Jeffes J. H. E., 1968, Journal of Crystal Growth, V3-4Spe, P13, DOI 10.1016/0022-0248(68)90098-5

[7]

KOKOVIN GA, 1968, 2 P C GALL ARS, P27

[8]

KOKOVIN GA, 1968, GROWTH PROCESSES STR, P106

[9]

KUZNETSOV FA, 1971, P SIB BRANCH ACAD CN, V12, P65

[10]

KUZNETSOV FA, 1970, GROWTH PROCESSES SEM, P73