STRUCTURE OF VAPOR-DEPOSITED COPPER

被引:10
作者
BAUER, RW
SCHWARTZ.AM
DANTONIO, C
机构
关键词
D O I
10.1016/0040-6090(68)90065-5
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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页码:529 / &
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共 3 条
[1]   TEMPERATURE CHANGES IN THIN METAL FILMS DURING VAPOR DEPOSITION [J].
BELOUS, MV ;
WAYMAN, CM .
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1967, 38 (13) :5119-&
[2]  
CHRISTIAN JW, 1965, THEORY TRANSFORMATIO, P720
[3]  
REICHMAN S, TO BE PUBLISHED