THE EFFECT OF ION INDUCED ROUGHNESS ON THE DEPTH RESOLUTION OF AUGER SPUTTER PROFILING OF MNOS DEVICES

被引：4

作者：

ADACHI, T ^{[1
]}

HELMS, CR ^{[1
]}

机构：

[1] SONY CORP,RES CTR,YOKOHAMA,KANAGAWA 240,JAPAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571002

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：119 / 119

页数：1

共 3 条

COOK, CF ;

HELMS, CR ;

FOX, DC .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1980, 17 (01) :44-46

HELMS, CR ;

JOHNSON, NM ;

SCHWARZ, SA ;

SPICER, WE .

SCHWARZ, SA ;

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JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1979, 16 (02) :781-783