ION MICROPROBE CHARACTERIZATION OF E-BEAM DEPOSITED YBACU(F)O FILMS - EFFECTS OF POST-DEPOSITION PROCESSING

被引：2

作者：

CHABALA, JM

CHANG, RPR

KETTERSON, JB

LEVISETTI, R

LI, DX

WANG, YL

WANG, XK

机构：

[1] AT&T BELL LABS,MURRAY HILL,NJ 07974

[2] UNIV CHICAGO,DEPT PHYS,CHICAGO,IL 60637

[3] NORTHWESTERN UNIV,MAT RES CTR,EVANSTON,IL 60206

来源：

PHYSICA C | 1989年 / 162卷

关键词：

D O I：

10.1016/0921-4534(89)90924-6

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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