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AVALANCHE INJECTION OF ELECTRONS INTO INSULATING SIO2 USING MOS STRUCTURES
被引:121
作者
:
NICOLLIAN, EH
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
NICOLLIAN, EH
BERGLUND, CN
论文数:
0
引用数:
0
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0
BERGLUND, CN
机构
:
来源
:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
|
1970年
/ 41卷
/ 07期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.1659364
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:3052 / +
页数:1
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共 11 条
[11]
PHOTOEMISSION OF ELECTRONS FROM SILICON INTO SILICON DIOXIDE
WILLIAMS, R
论文数:
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0
WILLIAMS, R
[J].
PHYSICAL REVIEW,
1965,
140
(2A):
: A569
-
&
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共 11 条
[11]
PHOTOEMISSION OF ELECTRONS FROM SILICON INTO SILICON DIOXIDE
WILLIAMS, R
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0
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WILLIAMS, R
[J].
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1965,
140
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: A569
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