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ELECTRON-BEAM PROXIMITY PRINTING - MASK LIFE INVESTIGATIONS
被引:4
作者
:
BOHLEN, H
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0
BOHLEN, H
GRESCHNER, J
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GRESCHNER, J
NEHMIZ, P
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0
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0
NEHMIZ, P
机构
:
来源
:
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY
|
1979年
/ 16卷
/ 06期
关键词
:
D O I
:
10.1116/1.570306
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:1834 / 1837
页数:4
相关论文
共 3 条
[1]
BOHLEN H, 1978, 8TH P INT C EL ION B, P420
[2]
BOHLEN H, 1978, 8TH P S EL ION BEAM, P406
[3]
ELECTRON RESISTS FOR MICROCIRCUIT AND MASK PRODUCTION
HATZAKIS, M
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
International Business Machines Corporation, Thomas J. Watson Research Center, New York, Yorktown Heights
HATZAKIS, M
[J].
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1969,
116
(07)
: 1033
-
&
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共 3 条
[1]
BOHLEN H, 1978, 8TH P INT C EL ION B, P420
[2]
BOHLEN H, 1978, 8TH P S EL ION BEAM, P406
[3]
ELECTRON RESISTS FOR MICROCIRCUIT AND MASK PRODUCTION
HATZAKIS, M
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
International Business Machines Corporation, Thomas J. Watson Research Center, New York, Yorktown Heights
HATZAKIS, M
[J].
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1969,
116
(07)
: 1033
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