THE MODIFIED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION PROCESS IN A CONCENTRIC ANNULUS - AN EXTENSION FOR FOCUSED HIGH-RATE DEPOSITION

被引：20

作者：

FIEBIG, M

HILGENSTOCK, M

RIEMANN, HA

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1080/02786828808959211

中图分类号：

TQ [化学工业];

学科分类号：

0817 ;

摘要：

引用

页码：237 / 249

页数：13

共 9 条

[1]

BIRD RB, 1960, TRANSPORT PHENOMENA, P85

[2]

BUEHL WM, 1982, Patent No. 4328017

[3]

KOEL GJ, 1983, ANN TELECOMMUN, V38

[4]

SANDOZ F, 1984, 10TH P ECOC STUTTG

[5]

SEEDORF M, 1986, THESIS BROWN U PROVI

SIMPKINS, PG ;

GREENBERGKOSINSKI, S ;

MACCHESNEY, JB .

WALKER, KL ;

GEYLING, FT ;

NAGEL, SR .

[8]

WANG CY, 1985, ASME, V107, P161

WEINBERG, MC .