共 31 条
- [31] ETCHING OF SILICON WITH XEF2 VAPOR[J]. APPLIED PHYSICS LETTERS, 1979, 34 (01) : 70 - 73WINTERS, HFCOBURN, JW
FLUORINATION OF THE SILICON DIOXIDE SURFACE DURING REACTIVE ION AND PLASMA-ETCHING IN HALOCARBON PLASMAS
被引：40
作者：
ROBEY, SW
OEHRLEIN, GS
机构：
关键词：
D O I：
10.1016/0039-6028(89)90604-3
中图分类号：
O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];
学科分类号：
070304 ;
081704 ;
摘要：
引用
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页码：429 / 448
页数：20
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