SILANE SILICIDATION OF MO THIN-FILMS

被引：14

作者：

CHOW, TP ^{[1
]}

BROWN, DM ^{[1
]}

STECKL, AJ ^{[1
]}

GARFINKEL, M ^{[1
]}

机构：

[1] RENSSELAER POLYTECH INST,INTEGRATED CIRCUITS LAB,DEPT ELECT & SYST ENGN,TROY,NY 12181

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1980年 / 51卷 / 11期

关键词：

D O I：

10.1063/1.327518

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：5981 / 5985

页数：5

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