共 11 条
REDUCTION IN X-RAY-LITHOGRAPHY SHOT NOISE EXPOSURE LIMIT BY DISSOLUTION PHENOMENA
被引:44
作者:
NEUREUTHER, AR
[1
]
WILLSON, CG
[1
]
机构:
[1] IBM,ALMADEN RES CTR,SAN JOSE,CA 95120
来源:
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
|
1988年
/
6卷
/
01期
关键词:
D O I:
10.1116/1.584037
中图分类号:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号:
0808 ;
0809 ;
摘要:
引用
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页码:167 / 173
页数:7
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