REDUCTION IN X-RAY-LITHOGRAPHY SHOT NOISE EXPOSURE LIMIT BY DISSOLUTION PHENOMENA

被引:44
作者
NEUREUTHER, AR [1 ]
WILLSON, CG [1 ]
机构
[1] IBM,ALMADEN RES CTR,SAN JOSE,CA 95120
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 01期
关键词
D O I
10.1116/1.584037
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:167 / 173
页数:7
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共 11 条
[11]   APPROACHES TO THE DESIGN OF RADIATION-SENSITIVE POLYMERIC IMAGING-SYSTEMS WITH IMPROVED SENSITIVITY AND RESOLUTION [J].
WILLSON, CG ;
ITO, H ;
FRECHET, JMJ ;
TESSIER, TG ;
HOULIHAN, FM .
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1986, 133 (01) :181-187