REACTION BEHAVIOR OF THIN LEAD-OXIDE LAYERS ON SILICA GLASS

被引：15

作者：

BACH, H ^{[1
]}

SCHROEDER, H ^{[1
]}

SCHAEFFER, HA ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV ERLANGEN NURNBERG,INST WERKSTOFFWISSENSCH 3,D-8520 ERLANGEN,FED REP GER

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(78)90242-0

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页数：13