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The crystalline structures of sputtered and evaporated metallic films.
被引:22
作者
:
Kahler, H
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
Cornell Univ, Ithaca, NY USA
Cornell Univ, Ithaca, NY USA
Kahler, H
[
1
]
机构
:
[1]
Cornell Univ, Ithaca, NY USA
来源
:
PHYSICAL REVIEW
|
1921年
/ 18卷
/ 03期
关键词
:
D O I
:
10.1103/PhysRev.18.210
中图分类号
:
O4 [物理学];
学科分类号
:
0702 ;
摘要
:
引用
收藏
页码:210 / 217
页数:8
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共 24 条
[21]
RICHTMYER, 1920, PHYS REV, V15, P465
[22]
WORTHING AG, 1921, PHYS REV, V17, P418
[23]
WORTING A, 1921, PHYS REV, V17, P239
[24]
1921, PHYS REV, V17, P230
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WORTING A, 1921, PHYS REV, V17, P239
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1921, PHYS REV, V17, P230
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