SIO2/SI INTERFACES STUDIED BY STM

被引：7

作者：

NIWA, M

IWASAKI, H

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1989年 / 28卷 / 12期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.28.L2320

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L2320 / L2323

页数：4

共 6 条

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