A HIGH-VOLTAGE PULSE SOURCE FOR ELECTRON-BEAM GENERATION USING FIELD-EMISSION

被引：7

作者：

MIZUNO, A

KAMASE, Y

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/28.18869

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：54 / 61

页数：8

共 5 条

[1]

KAWAMURA K, 1980, 73RD C REC ANN M AIR, P4

[2] ELECTRON-BEAM-CONTROLLED DISCHARGE XECL EXCIMER LASER [J].

LEVATTER, JI ;

MORRIS, JH ;

LIN, SC .

MASUDA, S ;

HIRANO, M ;

AKUTSU, K .

RADIATION PHYSICS AND CHEMISTRY, 1981, 17 (04) :223-228

MIZUNO, A ;

CLEMENTS, JS ;

DAVIS, RH .

[5]

Mizuno A., 1984, Conference Record of the Industry Applications Society IEEE-IAS-1984 Annual Meeting (Cat. No. 84CH2060-2), P1215