CHARACTERIZATION OF THERMALLY GROWN SIO2 SURFACES BY CONTACT ANGLE MEASUREMENTS

被引：35

作者：

FRIESER, RG ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,SYST PROD DIV,E FISHKILL FACIL,HOPEWELL JUNCTION,NY 12533

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1974年 / 121卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2401884

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：669 / 672

页数：4

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共 12 条

[11] ZISMAN WA, 1963, IND ENG CHEM, V55, P19
[12] ZISMAN WA, 1957, DECADE BASIC APPLIED