INFRARED ABSORPTION AND OXYGEN CONTENT IN SILICON AND GERMANIUM

被引：362

作者：

KAISER, W

KECK, PH

LANGE, CF

机构：

来源：

PHYSICAL REVIEW | 1956年 / 101卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1103/PhysRev.101.1264

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

页码：1264 / 1268

页数：5

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