A PRINCIPLE FOR THE FORMULATION OF PLASMA DEVELOPABLE RESISTS AND THE IMPORTANCE OF DRY DEVELOPMENT OF SUB-MICRON LITHOGRAPHY

被引：22

作者：

TSUDA, M ^{[1
]}

OIKAWA, S ^{[1
]}

KANAI, W ^{[1
]}

YOKOTA, A ^{[1
]}

HIJIKATA, I ^{[1
]}

UEHARA, A ^{[1
]}

NAKANE, H ^{[1
]}

机构：

[1] TOKYO OHKA KOGYO CO LTD,SAMUKAWA,KANAGAWA 25301,JAPAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571116

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：259 / 261

页数：3

共 27 条

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