COMPARATIVE ACCURACY OF HOLOGRAPHIC-INTERFEROMETRY AND SPECKLE PHOTOGRAPHY FOR OUT-OF-PLANE DEFORMATION MEASUREMENT

被引：7

作者：

ENNOS, AE

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0030-4018(80)90082-6

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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页数：4

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共 6 条

[1] DISPLACEMENT MEASUREMENT FROM DOUBLE-EXPOSURE LASER PHOTOGRAPHS [J].

ARCHBOLD, E ;

ENNOS, AE .

OPTICA ACTA, 1972, 19 (04) :253-&

[2]

ARCHBOLD E, 1978, 1ST EUR C OPT APPL M, V136, P258

[3]

ENNOS AE, 1979, P IUTAM S OPTICAL ME

[4]

Gregory D. A., 1976, Optics and Laser Technology, V8, P201, DOI 10.1016/0030-3992(76)90004-9

[5]

STETSON KA, 1976, J OPT SOC AM, V66, P1269

[6]

Tiziani H. J., 1972, Optics Communications, V5, P271, DOI 10.1016/0030-4018(72)90095-8