SILICON CONTAINING PHOTORESISTS FOR HALF MICRON LITHOGRAPHY

被引：7

作者：

SEZI, R

SEBALD, M

LEUSCHNER, R

机构：

来源：

POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE | 1989年 / 29卷 / 13期

关键词：

D O I：

10.1002/pen.760291313

中图分类号：

TQ [化学工业];

学科分类号：

0817 ;

摘要：

引用

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页码：891 / 894

页数：4

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共 11 条

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Willson C. G., 1987, Proceedings of the SPIE - The International Society for Optical Engineering, V771, P2, DOI 10.1117/12.940301