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PREPARATION OF HARD COATINGS
被引:9
作者
:
HILL, RJ
论文数:
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0
机构:
AIRCO INC,DIV AIRCO TEMESCAL,BERKELEY,CA 94710
AIRCO INC,DIV AIRCO TEMESCAL,BERKELEY,CA 94710
HILL, RJ
[
1
]
SCHEUERMANN, G
论文数:
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机构:
AIRCO INC,DIV AIRCO TEMESCAL,BERKELEY,CA 94710
AIRCO INC,DIV AIRCO TEMESCAL,BERKELEY,CA 94710
SCHEUERMANN, G
[
1
]
LUCARIELLO, R
论文数:
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机构:
AIRCO INC,DIV AIRCO TEMESCAL,BERKELEY,CA 94710
AIRCO INC,DIV AIRCO TEMESCAL,BERKELEY,CA 94710
LUCARIELLO, R
[
1
]
机构
:
[1]
AIRCO INC,DIV AIRCO TEMESCAL,BERKELEY,CA 94710
来源
:
THIN SOLID FILMS
|
1977年
/ 40卷
/ JAN期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0040-6090(77)90121-3
中图分类号
:
T [工业技术];
学科分类号
:
08 ;
摘要
:
引用
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页码:217 / 222
页数:6
相关论文
共 3 条
[1]
ACTIVATED REACTIVE EVAPORATION PROCESS FOR HIGH RATE DEPOSITION OF COMPOUNDS
BUNSHAH, RF
论文数:
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BUNSHAH, RF
RAGHURAM, AC
论文数:
0
引用数:
0
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RAGHURAM, AC
[J].
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY,
1972,
9
(06):
: 1385
-
&
[2]
KIEFFER R, 1972, METALL, V26, P128
[3]
1976, PHYSICAL VAPOR DEPOS, P62
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共 3 条
[1]
ACTIVATED REACTIVE EVAPORATION PROCESS FOR HIGH RATE DEPOSITION OF COMPOUNDS
BUNSHAH, RF
论文数:
0
引用数:
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0
BUNSHAH, RF
RAGHURAM, AC
论文数:
0
引用数:
0
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RAGHURAM, AC
[J].
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY,
1972,
9
(06):
: 1385
-
&
[2]
KIEFFER R, 1972, METALL, V26, P128
[3]
1976, PHYSICAL VAPOR DEPOS, P62
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