DEFECT DENSITY DISTRIBUTION FOR LSI YIELD CALCULATIONS

被引：109

作者：

STAPPER, CH ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,SYST PROD DIV,ESSEX JUNCTION,VT 05452

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/T-ED.1973.17719

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：655 / 657

页数：3

相关论文

共 7 条

[1] ANSLEY WG, 1968, IEEE T ELECTRON DEVI, VED15, P405
[2] Beyer WH, 1966, HDB TABLES PROBABILI
[3] Haight F. A., 1967, HDB POISSON DISTRIBU
[4] MOORE GE, 1970, ELECTRONICS, V43, P126
[5] COST-SIZE OPTIMA OF MONOLITHIC INTEGRATED CIRCUITS
MURPHY, BT
[J]. PROCEEDINGS OF THE IEEE, 1964, 52 (12) : 1537 - &
[6] SEEDS RB, 1967, 1967 IEEE INT CONV 6, P60
[7] YANAGAWA T, 1972, IEEE T ELECTRON DEVI, VED19, P190