X-RAY-LITHOGRAPHY

被引：76

作者：

HEUBERGER, A ^{[1
]}

机构：

[1] TECH UNIV BERLIN,D-1000 BERLIN 12,FED REP GER

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584026

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

收藏

页码：107 / 121

页数：15

相关论文

共 32 条

[1] [Anonymous], COMMUNICATION
[2] RESOLUTION LIMITS IN X-RAY-LITHOGRAPHY CALCULATED BY MEANS OF X-RAY-LITHOGRAPHY SIMULATOR XMAS
BETZ, H
HEINRICH, K
HEUBERGER, A
HUBER, H
OERTEL, H
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1986, 4 (01): : 248 - 252
[3] BETZ H, 1986, IN PRESS SEP MICR EN
[4] BETZ H, 1983, P SOC PHOTO, V448, P83
[5] INVESTIGATIONS OF X-RAY-EXPOSURE USING PLANE SCANNING MIRRORS
BIEBER, M
SCHEUNEMANN, HU
BETZ, H
HEUBERGER, A
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1983, 1 (04): : 1271 - 1275
[6] BRUNGER WH, 1983, MICROCIRCUIT ENG 83, P523
[7] BRUNGER WH, 1986, IN PRESS SEP MICR EN
[8] CSEPREGI L, 1984, J ELECTROCHEM SOC, V131, P2969
[9] CULLMANN E, 1983, SPIE P, V448, P104
[10] DOEMENS G, 1984, SIEMENS FORSCH ENTW, V13, P43

← 1 2 3 4 →