SIMILARITY OF THE LASER-ANNEALED AND THERMALLY ANNEALED SI(111) SURFACES

被引:50
作者
ZEHNER, DM [1 ]
WHITE, CW [1 ]
HEIMANN, P [1 ]
REIHL, B [1 ]
HIMPSEL, FJ [1 ]
EASTMAN, DE [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
来源
PHYSICAL REVIEW B | 1981年 / 24卷 / 08期
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.24.4875
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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页码:4875 / 4878
页数:4
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