INTERNAL STRESSES AND RESISTIVITY OF LOW-VOLTAGE SPUTTERED TUNGSTEN FILMS

被引：69

作者：

SUN, RC ^{[1
]}

TISONE, TC ^{[1
]}

CRUZAN, PD ^{[1
]}

机构：

[1] BELL TEL LABS,ALLENTOWN,PA 18103

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1973年 / 44卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1063/1.1662297

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1009 / 1016

页数：8

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共 22 条

[21] WHITMIRE LD, 1967, T METALL SOC AIME, V239, P824
[22] 1948, METAL HDB, P21