DETERMINATION OF ARGON IN THIN FILMS BY RF SPARK-SOURCE MASS SPECTROGRAPHY

被引：4

作者：

OBLAS, DW

HODA, H

机构：

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1968年 / 39卷 / 13期

关键词：

D O I：

10.1063/1.1656128

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

收藏

页码：6106 / &

相关论文

共 5 条

[1] ION INDUCED REEMISSION OF NOBLE GASES FROM A NICKEL SURFACE
CARMICHAEL, JH
TRENDELENBURG, EA
[J]. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1958, 29 (11) : 1570 - 1577
[2] GULDNER W, 1967, ELECTROCHEM SOC S
[3] GULDNER WG, 1964, IEEE T, VCP11, P9
[4] MALM D, 1966, 14 ANN C MASS SPECTR
[5] GAS INCORPORATION INTO SPUTTERED FILMS
WINTERS, HF
KAY, E
[J]. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1967, 38 (10) : 3928 - &