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- [11] THEORY OF SPUTTERING .I. SPUTTERING YIELD OF AMORPHOUS AND POLYCRYSTALLINE TARGETS[J]. PHYSICAL REVIEW, 1969, 184 (02): : 383 - +SIGMUND, P
ANGULAR ETCHING CORRELATIONS FROM RIE - APPLICATION TO VLSI FABRICATION AND PROCESS MODELING
被引：43
作者：
HAMBLEN, DP
CHALIN, A
机构：
关键词：
D O I：
10.1149/1.2096138
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
引用
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页码：1816 / 1822
页数：7
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