THE FUTURE COSTS OF SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY

被引：11

作者：

HILL, RW

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1989年 / 7卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584543

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：1387 / 1390

页数：4

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共 6 条

[1]

BUCKLEY J, 1989 SPIE P MICR LIT

[2]

DELLADURADIA R, 1988, IN PRESS XRAY TRANSM

[3]

LEE J, 1986, SOLID STATE TECHNOL, V29, P143

[4] ADVANCED CELL STRUCTURES FOR DYNAMIC RAMS [J].

LU, NCC .

IEEE CIRCUITS AND DEVICES MAGAZINE, 1989, 5 (01) :27-36

[5]

Moreau W. M., 1988, SEMICONDUCTOR LITHOG, V1st

[6]

WILSON AD, 1986, SOLID STATE TECHNOL, V29, P249