CONSIDERATION OF THE EFFECT OF THE THERMAL-BOUNDARY LAYER ON CVD GROWTH-RATES

被引：27

作者：

HITCHMAN, ML ^{[1
]}

机构：

[1] RCA LTD,LABS,CH-8048 ZURICH,SWITZERLAND

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0022-0248(80)90035-4

中图分类号：

O7 [晶体学];

学科分类号：

0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;

摘要：

引用

页码：394 / 402

页数：9

共 19 条

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